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Toshiba baut mit 65 Nanometern Veröffentlicht am: 23.02.2004 09:01:26 65nm bis Mitte 2005, 45nm bis Ende 2005 - Toshiba will die Marktführung im Bereich Lithographie Der Umstieg von 130 auf 90 Nanometer bereitet dem Chipriesen Intel mehr Schwierigkeiten als vorausgesagt. Hatte man sich eigentlich eine drastische Abnahme im Stromverbrauch erhofft, kam es ganz im Gegenteil zu einem hohen Anstieg. Aber auch die neuen Layouts sind schwer handhabbar, so musste der mobile Pentium mit dem Codenamen Dothan zuletzt nochmals verschoben werden, weil ein Fehler im Chiplayout eine riesige Verlustmenge von defekten CPU DIEs mit sich gezogen hätte. Während sich Intel also noch mittem im Umstieg auf die neue Technologie befindet, will der japanische Halbleiterkonzern Toshiba vorstoßen und zumindest im Sinne des technologischen Fortschritts die Nummer Eins auf dem Chip Markt werden. So hat das Unternehmen erst kürzlich ein neues Werk in Oita/Kyushu fertiggestellt und will dort mit der Verarbeitung von 300mm Wafern beginnen. Bis zur Mitte des nächsten Jahres sollen Mikrochips im 65nm Verfahren in Serienproduktion gehen. In Zusammenarbeit mit Sony - aus der momentan auch die Emotion Engines für Sonys Playstation 2 Konsolen entstehen - hatte man zunächst mit der Entwicklung der CMOS4 genannten Technologie begonnen. Diese baute noch auf 90 Nanometern auf und soll nun durch CMOS5 mit 65nm abgelöst werden. Direkt nach Fertigstellung von CMOS5 und dessen Serienreife wollen beide Unternehmen nahtlos zu CMOS6 übergehen und mit der Entwicklung eines 45nm Verfahrens beginnen, das dann bereits Ende 2005 bereitstehen soll. Möglich wird dieser enorme Technologieschub durch finanzielle Unterstützung des neuen Werkes in Höhe von fast zwei Milliarden US Dollar. Bis 2007 will man die Kapazitäten auf 12.500 Wafer pro Monat steigern und freut sich auf Platz Nummer Eins des Mikrochipmarktes. AlexG |